Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C
Publiceringsår
2022
Upphovspersoner
Rad, Zahra Jahanshah; Lehtiö, Juha Pekka; Chen, Kexun; Mack, Iris; Vähänissi, Ville; Miettinen, Mikko; Punkkinen, Marko; Punkkinen, Risto; Suomalainen, Petri; Hedman, Hannu Pekka; Kuzmin, Mikhail; Kozlova, Jekaterina; Rähn, Mihkel; tart, university; Savin, Hele; Laukkanen, Pekka; Kokko, Kalevi
Visa merOrganisationer och upphovspersoner
Åbo universitet
Kokko Kalevi
Punkkinen Marko
Kuzmin Mikhail
Laukkanen Pekka
Hedman Hannu-Pekka
Suomalainen Petri
Punkkinen Risto
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Delvis öppen publikationskanal
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Materialteknik
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1016/j.vacuum.2022.111134
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja