Effect of ozone concentration on silicon surface passivation by atomic layer deposited Al2O3

Publiceringsår

2015

Upphovspersoner

von Gastrow, Guillaume; Li, Shuo; Putkonen, Matti; Laitinen, Mikko; Sajavaara, Timo; Savin, Hele

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

von Gastrow Guillaume

Savin Hele

Putkonen Matti

Jyväskylä universitet

Laitinen Mikko

Sajavaara Timo

Teknologiska forskningscentralen VTT Ab

Putkonen Matti

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

Applied surface science

Förläggare

Elsevier BV * North-Holland

Volym

357, Part B

Sidor

2402-2407

ISSN

0169-4332

Publikationsforum

51536

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Kemi; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Materialteknik

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1016/j.apsusc.2015.09.263