Blistering mechanisms of atomic-layer-deposited AlN and Al2O3 films
Publiceringsår
2017
Upphovspersoner
Broas, Mikael; Jiang, Hua; Graff, Andreas; Sajavaara, Timo; Vuorinen, Vesa; Paulasto-Kröckel, Mervi
Organisationer och upphovspersoner
Jyväskylä universitet
Sajavaara Timo 
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal/Serie
Förläggare
Volym
111
Nummer
14
Artikelnummer
141606
Sidor
1-4
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
2
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik
Identifierade tema
[object Object]
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja