Thermal and plasma enhanced atomic layer deposition of SiO2 using commercial silicon precursors
Publiceringsår
2014
Upphovspersoner
Putkonen, Matti; Bosund, Markus; Ylivaara, Oili M E; L.Puurunen, Riikka; Kilpi, Lauri; Ronkainen, Helena; Sintonen, Sakari; Ali, Saima; Lipsanen, Harri K.; Liu, Xuwen; Haimi, Eero; Hannula, Simo Pekka; Sajavaara, Timo; Buchanan, Iain; Karwacki, Eugene J.; Vähä-Nissi, Mika
Visa merOrganisationer och upphovspersoner
Jyväskylä universitet
Sajavaara Timo 
Aalto-universitetet
Haimi Eero
Lipsanen Harri
Putkonen Matti
Ylivaara Oili
Puurunen Riikka
Ali Saima
Sintonen Sakari
Hannula Simo-Pekka
Liu Xuwen
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Förläggare
Volym
558
Nummer
May
Sidor
93-98
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
2
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Kemi; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Materialteknik; Nanoteknologi; Medicinsk bioteknologi
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Publiceringsland
Nederländerna
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Ja
DOI
10.1016/j.tsf.2014.02.087
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja