Atomic Layer Deposition of LiF Thin Films from Lithd, Mg(thd)(2), and TiF4 Precursors

Publiceringsår

2013

Upphovspersoner

Mäntymäki, Miia; Hämäläinen, Jani; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku

Organisationer och upphovspersoner

Jyväskylä universitet

Sajavaara Timo

Helsingfors universitet

Puukilainen Esa

Hämäläinen Jani

Leskelä Markku

Mäntymäki Miia

Ritala Mikko

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Volym

Nummer

Sidor

1656-1663

ISSN

0897-4756

Publikationsforum

53342

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Kemi; Maskin- och produktionsteknik

Nyckelord

[object Object],[object Object]

Publiceringsland

Förenta staterna (USA)

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1021/cm400046w