undefined

Low temperature atomic layer deposition of noble metals using ozone and molecular hydrogen as reactants

Publiceringsår

2013

Upphovspersoner

Hämäläinen, Jani; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku

Organisationer och upphovspersoner

Helsingfors universitet

Puukilainen Esa

Hämäläinen Jani

Leskelä Markku

Ritala Mikko

Jyväskylä universitet

Sajavaara Timo Orcid -palvelun logo

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

Thin solid films

Moderpublikationens namn

Thin Solid Films

Förläggare

Elsevier

Volym

531

Sidor

243-250

Publikationsforum

68419

Publikationsforumsnivå

2

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Kemi

Nyckelord

[object Object],[object Object]

Publiceringsland

Schweiz

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1016/j.tsf.2013.01.091

Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling

Ja