Atomic layer deposition of Ru films from bis(2,5-dimethylpyrrolyl)ruthenium and oxygen
Publiceringsår
2012
Upphovspersoner
Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan; Aidla, Aleks; Jogi, Indrek; Arroval, Tonis; Lu, Jun; Sajavaara, Timo; Laitinen, Mikko; Kiisler, Alma-Asta; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku; Peck, John; Natwora, Jim; Geary, Joan; Spohn, Ronald; Meiere, Scott; Thompson, David M.
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
Förläggare
Volym
520
Nummer
7
Sidor
2756-2763
ISSN
Publikationsforum
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Kemi
Nyckelord
[object Object]
Publiceringsland
Schweiz
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1016/j.tsf.2011.11.088
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja