Iridium metal and iridium oxide thin films grown by atomic layer deposition at low temperatures
Publiceringsår
2011
Upphovspersoner
Hämäläinen, Jani; Hatanpää, Timo Tapio; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisationer och upphovspersoner
Jyväskylä universitet
Sajavaara Timo 
Helsingfors universitet
Puukilainen Esa
Hämäläinen Jani
Leskelä Markku
Ritala Mikko
Hatanpää Timo Tapio
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Förläggare
Volym
21
Nummer
41
Sidor
16488-16493
ISSN
Publikationsforum
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Kemi
Nyckelord
[object Object]
Publiceringsland
Förenade kungariket
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1039/C1JM12245B
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja