RBS and PIXE analysis of chlorine contamination in ALD-Grown TiN films on silicon
Publiceringsår
2013
Upphovspersoner
Meersschaut, J.; Käyhkö, Marko; Lenka, H.P.; Witters, T.; Zhao, Q.; Vantomme, A.; Vandervorst, W.
Organisationer och upphovspersoner
Jyväskylä universitet
Käyhkö Marko 
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Konferens
Artikelstyp
Annan artikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A4 Artikel i en konferenspublikationPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
Application of accelerators in research and industry: Twenty-Second International Conference
Förläggare
Sidor
190-194
ISSN
ISBN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik
Nyckelord
[object Object],[object Object]
Publiceringsland
Förenta staterna (USA)
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1063/1.4802317
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja