Reaction mechanism studies on atomic layer deposition processes
Publiceringsår
2024
Upphovspersoner
Nieminen, Heta-Elisa
Organisationer och upphovspersoner
Helsingfors universitet
Nieminen Heta-Elisa
Publikationstyp
Publikationsform
Separat verk
Målgrupp
Vetenskaplig
UKM:s publikationstyp
G5 Artikelavhandling
Publikationskanalens uppgifter
Journal
Dissertationes Universitatis Helsingiensis
Moderpublikationens namn
Förläggare
Helsingin yliopisto
Nummer
35/2024
ISSN
ISBN
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Helt öppen publikationskanal
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi
Publiceringsland
Finland
Förlagets internationalitet
Inhemsk
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja