1D Crystallographic Etching of Few-Layer WS<sub>2</sub>

Publiceringsår

2024

Upphovspersoner

Li, Shisheng; Lin, Yung Chang; Chiew, Yiling; Dai, Yunyun; Ning, Zixuan; Zhang, Yaming; Nakajima, Hideaki; Lim, Hong En; Wu, Jing; Neitoh, Yasuhisa; Okazaki, Toshiya; Sun, Yang; Sun, Zhipei; Suenaga, Kazu; Sakuma, Yoshiki; Tsukagoshi, Kazuhito; Taniguchi, Takaaki

Visa mer

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Dai Yunyun

Sun Zhipei

Ning Zixuan

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Advanced Functional Materials

Förläggare

Wiley

Volym

Nummer

Artikelnummer

2405665

ISSN

1616-301X

Publikationsforum

50432

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Materialteknik

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1002/adfm.202405665