Influence of selected methodology on derived rise time of partial discharge calibrators
Publiceringsår
2024
Upphovspersoner
Klüss, Joni; Meisner, Johann; Havunen, Jussi; Yan, Wei; Hällström, Jari
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Konferens
Artikelstyp
Annan artikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A4 Artikel i en konferenspublikationPublikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
2024 IEEE International Conference on High Voltage Engineering and Applications (ICHVE)
Konferens
2024 IEEE International Conference on High Voltage Engineering and Applications, ICHVE 2024
ISSN
ISBN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1109/ICHVE61955.2024.10676201
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja