Atomic Layer Deposition of ScF<sub>3</sub> and Sc<sub>x</sub>Al <sub>y</sub>F<sub>z</sub> Thin Films
Publiceringsår
2024
Upphovspersoner
Atosuo, Elisa; Heikkilä, Mikko; Majlund, Johanna; Pesonen, Leevi; Mäntymäki, Miia; Mizohata, Kenichiro; Leskelä, Markku; Ritala, Mikko
Organisationer och upphovspersoner
Helsingfors universitet
Atosuo Elisa
Majlund Johanna
Mizohata Kenichiro
Pesonen Leevi
Leskelä Markku
Mäntymäki Miia
Heikkilä Mikko
Ritala Mikko
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Helt öppen publikationskanal
Parallellsparad
Nej
Publiceringsavgift för öppen tillgång €
1792
Betalningsår för den öppen tillgång publiceringsavgiften
2024
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi
Publiceringsland
Förenta staterna (USA)
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1021/acsomega.3c09147
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja