Area-Selective Atomic Layer Deposition and Area-Selective Etching for Self-aligned Patterning
Publiceringsår
2023
Upphovspersoner
Zhang, Chao
Organisationer och upphovspersoner
Helsingfors universitet
Zhang Chao
Publikationstyp
Publikationsform
Separat verk
Målgrupp
Vetenskaplig
UKM:s publikationstyp
G5 Artikelavhandling
Publikationskanalens uppgifter
Förläggare
Helsingin yliopisto
ISBN
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Helt öppen publikationskanal
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Teknisk kemi, kemisk processteknik; Materialteknik; Nanoteknologi
Publiceringsland
Finland
Förlagets internationalitet
Inhemsk
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja