Atomic layer deposition of CoF<sub>2</sub>, NiF<sub>2</sub> and HoF<sub>3</sub> thin films
Publiceringsår
2023
Upphovspersoner
Atosuo, Elisa; Mäntymäki, Miia; Pesonen, Leevi; Mizohata, Kenichiro; Hatanpää, Timo; Leskelä, Markku; Ritala, Mikko
Organisationer och upphovspersoner
Helsingfors universitet
Atosuo Elisa
Mizohata Kenichiro
Pesonen Leevi
Leskelä Markku
Mäntymäki Miia
Ritala Mikko
Hatanpää Timo
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal/Serie
Moderpublikationens namn
Volym
52
Nummer
31
Sidor
10844-10854
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Delvis öppen publikationskanal
Licens för förläggarens version
CC BY
Parallellsparad
Ja
Parallellagringens licens
CC BY
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi
Nyckelord
[object Object],[object Object]
Publiceringsland
Förenade kungariket
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1039/d3dt01717f
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja