(oral talk) Low Temperature Plasma-enhanced ALD for SiO<sub>2</sub> Using CO<sub>2</sub>
Publiceringsår
2019
Upphovspersoner
Zhu, Zhen; Sippola, Perttu; Modanese, Chiara; Ylivaara, Oili; Merdes, Saoussen; Mizohata, Kenichiro; Salmi, Emma; Di Sabatino, Marisa; Savin, Hele
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Abstrakt
Moderpublikationens typ
Konferens
Målgrupp
Vetenskaplig
Publikationskanalens uppgifter
Konferens
International Conference on ALD Applications & China ALD Conference
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Materialteknik
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Förlagets internationalitet
Inhemsk
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Ja
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej