Advanced deposition tools for the development of oxide thin films

Publiceringsår

2023

Upphovspersoner

Tossi, Camilla; Laouadi, Ornella; Raju, Ramesh; Tittonen, Ilkka; Singh, Aadesh P.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Singh Aadesh

Tossi Camilla

Tittonen Ilkka

Laouadi Ornella

Raju Ramesh

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Samlingsverk

Artikelstyp

Annan artikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A3 Del av bok eller annat samlingsverk

Publikationskanalens uppgifter

Sidor

135-164

ISBN

978-0-323-90907-5

Publikationsforum

6192

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Materialteknik; Nanoteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1016/B978-0-323-90907-5.00023-3