Perspectives on Black Silicon in Semiconductor Manufacturing: Experimental Comparison of Plasma Etching, MACE and Fs-Laser Etching
Publiceringsår
2022
Upphovspersoner
Liu, Xiaolong; Radfar, Behrad; Chen, Kexun; Setälä, Olli; Pasanen, Toni; Yli-Koski, Marko; Savin, Hele; Vähänissi, Ville
Organisationer och upphovspersoner
Aalto-universitetet
Radfar Behrad 
Savin Hele
Chen Kexun
Yli-Koski Marko
Setälä Olli
Pasanen Toni
Vähänissi Ville
Liu Xiaolong
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Förläggare
Volym
35
Nummer
3
Sidor
504-510
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Delvis öppen publikationskanal
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Materialteknik
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1109/TSM.2022.3190630
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja