Diffusion of silicon in ion implanted GaAs
Publiceringsår
1998
Upphovspersoner
Likonen, Jari; Ahlgren, T.; Slotte, J.; Räisänen, Jyrki; Keinonen, J.
Organisationer och upphovspersoner
Teknologiska forskningscentralen VTT Ab
Likonen Jari
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Konferens
Artikelstyp
Annan artikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Inte kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
B3 Icke-referentgranskad artikel i konferenspublikationPublikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
Konferens
11th International Conference on Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS XI
Förläggare
Wiley
Sidor
397-400
ISBN
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej