Development and characterization of resist for low temperature nanoimprint lithography
Publiceringsår
2002
Upphovspersoner
Reuther, F.; Fink, M.; Grueztner, G.; Pfeiffer, K.; Seekamp, J.; Zankovych, S.; Sotomayor Torres, C.M.; Scheer, H.C.; Schultz, H.; Montelius, L.; Mayer, C.; Cardinaud, C.; Ahopelto, Jouni
Organisationer och upphovspersoner
Teknologiska forskningscentralen VTT Ab
Ahopelto Jouni
Publikationstyp
Publikationsform
Abstrakt
Moderpublikationens typ
Konferens
Målgrupp
Vetenskaplig
Publikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
Konferens
1st International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology, NNT'02
Förläggare
Naval Research Laboratory
Sidor
156-157
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Nyckelord
[object Object]
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej