Nanostructured TiO2 films deposited by MOCVD on Si-substrates

Publiceringsår

2003

Upphovspersoner

Backman, Ulrika; Auvinen, Ari; Jokiniemi, Jorma

Organisationer och upphovspersoner

Teknologiska forskningscentralen VTT Ab

Auvinen Ari

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Konferens

Artikelstyp

Annan artikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A4 Artikel i en konferenspublikation

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

ECS Proceedings Volumes

Moderpublikationens namn

Chemical Vapor Deposition XVI and EUROCVD 14: Proceedings of International symposium: Paris, France, 27 April - 2 May 2003

Förläggare

Electrochemical Society ECS

Volym

2003-08

Sidor

1131-1137

ISSN

2576-1579

ISBN

1-56677-378-4

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling

Nej