Study on Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> film in anhydrous HF vapor
Publiceringsår
2012
Upphovspersoner
Ritala, Heini; Tuohiniemi, Mikko
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Konferens
Artikelstyp
Annan artikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A4 Artikel i en konferenspublikationPublikationskanalens uppgifter
Journal
Konferens
10th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, UCPSS 2010
Sidor
45-48
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object]
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.4028/www.scientific.net/SSP.187.45
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja