On the early history of atomic layer deposition: most significant works and applications
Publiceringsår
2016
Upphovspersoner
Aarik, Jaan; Ahvenniemi, Esko; Akbashev, Andrew R.; Ali, Saima; Bechelany, Mikhael; Berdova, Maria; Cameron, David; Chekurov, Nikolai; Chubarov, Mikhail; Drozd, Viktor; Elliott, Simon; Gottardi, Gloria; Grigoras, Kestutis; Hwang, Cheol Seong; Junige, Marcel; Kallio, Tanja; Kanervo, Jaana; Khmelnitskiy, Ivan; Koshtyal, Yury; Krause, Outi; Kääriäinen, Marja-Leena; Kääriäinen, Tommi; Lamagna, Luca; Lipsanen, Harri; Lyytinen, Jussi; Malkov, Anatoly; Malygin, Anatoly; Molarius, Jyrki; Norek, Malgorzata; Ozgit-Akgun, Cagla; Panov, Mikhail; Pedersen, Henrik; Piallat, Fabien; Popov, Georgi; Puurunen, Riikka L.; Pyymaki-Perros, Alexander; Ras, Robin H. A.; Roozeboom, Fred; Sajavaara, Timo; Savin, Hele; Seidel, Thomas E.; Sundberg, Pia; Sundqvist, Jonas; Suyatin, Dmitry; Tallarida, Massimo; Törndahl, Tobias; Utriainen, Mikko; van Ommen, J. Ruud; Wächtler, Thomas; Wiemer, Claudia; Ylivaara, Oili M. E.; Yurkevich, Oksana
Visa merOrganisationer och upphovspersoner
Teknologiska forskningscentralen VTT Ab
Molarius Jyrki
Grigoras Kestutis
Utriainen Mikko 
Ylivaara Oili M. E.
Puurunen Riikka L.
Publikationstyp
Publikationsform
Poster
Moderpublikationens typ
Konferens
Målgrupp
Vetenskaplig
Publikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
16th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2016
Konferens
16th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2016
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Kemi; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Ja
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej