Residual stress in thin films made by atomic layer deposition
Publiceringsår
2016
Upphovspersoner
Ylivaara, Oili; Puurunen, Riikka
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Poster
Moderpublikationens typ
Konferens
Målgrupp
Vetenskaplig
Publikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
Konferens
HERALD WG2 Workshop & 4th Annual Seminar of Finnish Center of Excellence in Atomic Layer Deposition (ALDCoE)
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Materialteknik
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object]
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej