Dopant Concentration Analysis of ALD Thin Films in 3D Structures by ToF-SIMS
Publiceringsår
2019
Upphovspersoner
Kia, Alireza M.; Weinreich, Wenke; Utriainen, Mikko; Puurunen, Riikka L.; Haufe, Nora
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Abstrakt
Moderpublikationens typ
Konferens
Målgrupp
Vetenskaplig
Publikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
Konferens
19th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2019
Förläggare
American Vacuum Society (AVS)
Sidor
61-61
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik
Nyckelord
[object Object]
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej