Amorphization of silicon by high dose germanium ion implantation with no external cooling mechanism
Publiceringsår
1994
Upphovspersoner
Xia, Z.; Saarilahti, Jaakko; Ristolainen, E.; Eränen, S.; Ronkainen, Hannu; Kuivalainen, Pekka; Paine, D.; Tuomi, T.
Organisationer och upphovspersoner
Teknologiska forskningscentralen VTT Ab
Ronkainen Hannu
Saarilahti Jaakko
Kuivalainen Pekka
Eränen S.
Xia Z.
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Volym
78
Nummer
3
Sidor
321-330
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
2
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1016/0169-4332(94)90021-3
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej