Monolithic Ge integration on the 3 µm SOI platform for 40 GHz photodiodes
Publiceringsår
2020
Upphovspersoner
Aalto, Timo; Vehmas, Tapani; Kapulainen, Markku; Heimala, Päivi; Delrosso, Giovanni; Sun, Fei; Gao, Feng
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Konferens
Artikelstyp
Annan artikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A4 Artikel i en konferenspublikationPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
PRiME 2020: SiGe, Ge, and Related Compounds: Materials, Processing, and Devices 9
Förläggare
Volym
98
Nummer
5
Sidor
303-313
ISSN
ISBN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Teknisk kemi, kemisk processteknik; Materialteknik
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1149/09805.0303ecst
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja