undefined

Improved emitter performance of RIE black silicon through the application of in-situ oxidation during POCl3 diffusion

Publiceringsår

2020

Upphovspersoner

Fung, Tsun Hang; Pasanen, Toni; Zhang, Yu; Soeriyadi, Anastasia; Vähänissi, Ville; Scardera, Giuseppe; Payne, David; Savin, Hele; Abbott, Malcolm

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Savin Hele Orcid -palvelun logo

Pasanen Toni Orcid -palvelun logo

Vähänissi Ville Orcid -palvelun logo

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Förläggare

Elsevier

Volym

210

Artikelnummer

110480

Publikationsforum

67368

Publikationsforumsnivå

2

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Ja

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Materialteknik; Nanoteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Ja

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1016/j.solmat.2020.110480

Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling

Ja