Improved emitter performance of RIE black silicon through the application of in-situ oxidation during POCl3 diffusion
Publiceringsår
2020
Upphovspersoner
Fung, Tsun Hang; Pasanen, Toni; Zhang, Yu; Soeriyadi, Anastasia; Vähänissi, Ville; Scardera, Giuseppe; Payne, David; Savin, Hele; Abbott, Malcolm
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Förläggare
Volym
210
Artikelnummer
110480
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
2
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Materialteknik; Nanoteknologi
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1016/j.solmat.2020.110480
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja