Annealing behaviour of high-dose-implanted nitrogen in InP
Publiceringsår
1996
Upphovspersoner
Likonen, Jari; Väkeväinen, K.; Ahlgren, T.; Räisänen, Jyrki; Rauhala, Esko; Keinonen, J.
Organisationer och upphovspersoner
Teknologiska forskningscentralen VTT Ab
Likonen Jari 
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Volym
62
Nummer
5
Sidor
463-468
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
2
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1007%2FBF01567118
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej