Silicon diffusion in amorphous carbon films

Publiceringsår

2001

Upphovspersoner

Vainonen-Ahlgren, E.; Ahlgren, T.; Khriachtcev, L.; Likonen, Jari; Lehto, Sari; Keinonen, J.; Wu, C.

Organisationer och upphovspersoner

Teknologiska forskningscentralen VTT Ab

Likonen Jari

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of Nuclear Materials

Volym

290-293

Sidor

216-219

ISSN

0022-3115

Publikationsforum

61189

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1016/S0022-3115(00)00564-X

Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling

Nej