Reactive phase formation in thin film metal/metal and metal/silicon diffusion couples
Publiceringsår
2003
Upphovspersoner
Laurila, Tomi; Molarius, Jyrki
Organisationer och upphovspersoner
Teknologiska forskningscentralen VTT Ab
Molarius Jyrki
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Volym
28
Nummer
3
Sidor
185-230
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1080/10408430390261955
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej