Etching of Sacrificial CVD Silicon Dioxide with Anhydrous HF Vapor
Publiceringsår
2009
Upphovspersoner
Ritala, Heini; Kiihamäki, Jyrki
Organisationer och upphovspersoner
Teknologiska forskningscentralen VTT Ab
Kiihamäki Jyrki 
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Volym
25
Nummer
5
Sidor
351-358
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1149/1.3202673
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Nej