Advanced cyclopentadienyl precursors for atomic layer deposition of ZrO2 thin films

Publiceringsår

2008

Upphovspersoner

Niinistö, Jaakko; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile; Putkonen, Matti; Dezelah IV, Charles L.; Niinistö, Lauri; Lu, Jun; Song, Fuquan; Williams, Paul; Heys, Peter N.; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of Materials Chemistry

Förläggare

Royal Society of Chemistry

Volym

Nummer

Sidor

3385-3390

ISSN

0959-9428

Publikationsforum

60943

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Kemi

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej