Ultrahigh Vacuum Plasma Oxidation in the Fabrication of Ultrathin Silicon Dioxide Films

Ultrahigh Vacuum Plasma Oxidation in the Fabrication of Ultrathin Silicon Dioxide Films

Publiceringsår

2000

Upphovspersoner

Majamaa, Tero

Organisationer och upphovspersoner

Publikationstyp

Publikationsform

Separat verk

Målgrupp

Facklig

UKM:s publikationstyp

D4 Publicerad utvecklings- eller forskningsrapport eller -utredning

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Förlagets internationalitet

Inhemsk

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling

Ja