White beam synchrotron x-ray topography studies of copper interconnect inducec strain in Si ic processing
Publiceringsår
2002
Upphovspersoner
Kanatharana, J.; McNally, P.J.; Tuomi, T.; Toh, B.H.W.; McNeill, D.; Chen, W.M.; Riikonen, J.; Knuuttila, L.; Pérez-Camacho, J.J.
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Separat verk
Målgrupp
Facklig
UKM:s publikationstyp
D4 Publicerad utvecklings- eller forskningsrapport eller -utredning
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Nyckelord
[object Object],[object Object]
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja