Dependence of the Anisotropy of Wet Chemical Etching of Silicon on the Amount of Surface Coverage by OH Radicals

Publiceringsår

2003

Upphovspersoner

Gosálvez, Miguel A.; Foster, Adam S.; Nieminen, Risto M.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Foster Adam

Nieminen Risto

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

SENSORS AND MATERIALS

Förläggare

M Y U Scientific Publishing Division

Volym

Nummer

Sidor

53-65

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej