Controlled growth of HfO2 thin films by atomic layer deposition from cyclopentadienyl-type precursor and water

Publiceringsår

2005

Upphovspersoner

Niinistö, Jaakko; Putkonen, Matti; Niinistö, Lauri; Stoll, Sarah; Kukli, Kaupo; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of Materials Chemistry

Förläggare

Royal Society of Chemistry

Volym

Sidor

2271-2275

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej