Implantation Defects and n-type Doping in Ge and Ge rich SiGe

Publiceringsår

2008

Upphovspersoner

Peaker, A.R.; Markevich, V.P.; Hamilton, B.; Hawkins, I.D.; Slotte, J.; Kuitunen, K.; Tuomisto, F.; Satta, A.; Simoen, E.; Abrosimov, N.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Tuomisto Filip

Slotte Jonatan

Kuitunen Katja

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Thin Solid Films

Förläggare

Elsevier

Volym

517

Nummer

Sidor

152-154

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Maskin- och produktionsteknik; Miljöteknik; Nanoteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1016/j.tsf.2008.08.088