Growth Per Cycle in Atomic Layer Deposition: A Theoretical Model

Publiceringsår

2003

Upphovspersoner

Puurunen, Riikka

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Puurunen Riikka

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Chemical Vapor Deposition

Förläggare

Wiley

Volym

Nummer

Sidor

249-257

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej