undefined

Mask material effects in cryogenic deep reactive ion etching

Publiceringsår

2007

Upphovspersoner

Franssila, Sami; Sainiemi, Lauri

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Franssila Sami Orcid -palvelun logo

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of Vacuum Science and Technology. Part B.

Förläggare

AVS Science and Technology Society

Volym

25

Nummer

3

Sidor

801-807

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Ja

Öppen tillgång till publikationskanalen

Helt öppen publikationskanal

Parallellsparad

Ja

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1116/1.2734157

Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling

Ja