Atomistic simulations of surface coverage effects in anisotropic wet chemical etching of crystalline silicon

Publiceringsår

2002

Upphovspersoner

Gosálvez, Miguel; Foster, Adam; Nieminen, Risto

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Foster Adam

Nieminen Risto

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Konferens

Artikelstyp

Annan artikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A4 Artikel i en konferenspublikation

Publikationskanalens uppgifter

Moderpublikationens namn

3rd Workshop on Physical Chemistry of Wet Etching of Silicon, Nara, Japan, June 4-6, 2002

Sidor

37-40

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej