Fabrication of Ultrathin Silicon Dioxide Layers in Room Temperature by Ultrahigh Vacuum Plasma Oxidation

Publiceringsår

1998

Upphovspersoner

Majamaa, T.; Kilpelä, O.; Novikov, S.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

Applied Surface Science

Förläggare

Elsevier

Volym

136

Nummer

1-2

Sidor

17-21

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej