Total reflection X-ray topography for the observation of misfit dislocation strain at the surface of a Si/Ge-Si heterostructure

Publiceringsår

2002

Upphovspersoner

McNally, P.J.; Dilliway, G.; Bonar, J.M.; Willoughby, A.; Tuomi, T.; Rantamäki, R.; Danilewsky, A.N.; Lowney, D.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of X-Ray Science and Technology

Förläggare

IOS PRESS

Nummer

Sidor

121-130

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej