Development of crystallinity and morphology in hafnium dioxide thin films grown by atomic layer epitaxy

Publiceringsår

1994

Upphovspersoner

Ritala, Markku; Leskelä, M.; Niinistö, L.; Prohaska, T.; Friedbacher, G.; Grasserbauer, M.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

Thin Solid Films

Förläggare

Elsevier

Volym

250

Sidor

72-80

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej