Atomic layer deposition (ALD) of high quality Ga2O3 thin films from a dimeric dialkylamido-bridged gallium complex

Publiceringsår

2005

Upphovspersoner

Dezelah IV, Charles L.; Niinistö, Jaakko; Putkonen, Matti; Arstila, Kai; Winter, Charles H.; Niinistö, Lauri

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Konferens

Artikelstyp

Annan artikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A4 Artikel i en konferenspublikation

Publikationskanalens uppgifter

Moderpublikationens namn

The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2005), San Jose, CA, USA, August, 8-10, 2005

Förläggare

American Vacuum Society

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej