Titanium isopropoxide as a precursor in atomic layer epitaxy of titanium dioxide thin films

Publiceringsår

1993

Upphovspersoner

Ritala, M.; Leskelä, M.; Niinistö, L.; Haussalo, P.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Chemistry of Materials

Förläggare

AMERICAN CHEMICAL SOCIETY

Volym

Sidor

1174-1181

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej