X-ray topography studies of dislocation distributions in Si during rapid thermal diffusion

Publiceringsår

2000

Upphovspersoner

Lowney, D.; McNally, P.; Nolan, M.; Perova, T.; Tuomi, T.; Rantamäki, R.; Danilewsky, A.N.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Separat verk

Målgrupp

Facklig

UKM:s publikationstyp

D4 Publicerad utvecklings- eller forskningsrapport eller -utredning

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej