The fabrication of silicon nanostructures by local gallium implantation and cryogenic deep reactive ion etching Ion Etching

Publiceringsår

2009

Upphovspersoner

Chekurov, Nikolai; Grigoras, Kestutis; Peltonen, Antti; Franssila, Sami; Tittonen, Ilkka

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Tittonen Ilkka

Franssila Sami

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

Nanotechnology

Förläggare

Institute of Physics Publishing

Volym

Nummer

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Kemi; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Materialteknik; Nanoteknologi; Medicinsk bioteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej