Fluence, flux and implantation temperature dependence of ion implantation induced defect production in 4H-SiC

Publiceringsår

2005

Upphovspersoner

Slotte, Jonatan; Janson, M.S.; Saarinen, Kimmo; Kuznetsov, A.Yu.; Hallén, A.; Wong-Leung, J.; Jagadish, C.; Svensson, B.G.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Slotte Jonatan

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of Applied Physics

Förläggare

American Institute of Physics

Volym

Nummer

Sidor

033513-033513-7

ISSN

0021-8979

Publikationsforum

59616

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej