Atomic layer epitaxy deposition of CeO2 and Y2O3 overlayers on silicon

Publiceringsår

1994

Upphovspersoner

Mölsä, H.; Niinistö, L.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Konferens

Artikelstyp

Annan artikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A4 Artikel i en konferenspublikation

Publikationskanalens uppgifter

Moderpublikationens namn

2nd International Conference on f-Elements, ICFE-2, Programme and Abstracts, Helsinki, 1.-6.8.1994

Sidor

PH1

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej